Đại học Chiết Giang trình làng máy in thạch bản Xizhi bằng chùm điện tử

thứ Ba, 19/08/2025 18:50
năng lực sản xuất chip của Trung Quốc đang có những bước tiến nhanh chóng. Mới đây, một doanh nghiệp trong nước đã chế tạo thành công thiết bị quang khắc bằng chùm electron (e-beam lithography – EBL) đầu tiên phục vụ mục đích thương mại.

Máy quang khắc mới sử dụng chùm electron, nhưng tốc độ còn hạn chế​

Từ trước tới nay, Trung Quốc vẫn bị đánh giá là tụt hậu trong lĩnh vực quang khắc bán dẫn do không thể tiếp cận các thiết bị tối tân của ASML – vốn được xem là “cánh cửa cuối cùng” để sản xuất chip tiên tiến. Dù nhiều nỗ lực đã được triển khai nhằm tự phát triển công nghệ EUV, nhưng đó là câu chuyện lâu dài.


theo nhật báo Bưu điện Hoa Nam, các nhà nghiên cứu tại Đại học Chiết Giang (Hàng Châu) đã công bố một cột mốc quan trọng: phát triển máy quang khắc chùm electron đầu tiên, đặt tên là Xizhi .

Ưu điểm và hạn chế của Xizhi:

• Độ chính xác: đạt mức 0,6nm – gần tiệm cận với công nghệ High-NA EUV của ASML.
• Hạn chế: tốc độ xử lý cực chậm, do cơ chế “khắc từng điểm” khiến việc tạo ra một tấm wafer có thể mất hàng giờ.

điều này đồng nghĩa với việc Xizhi phù hợp cho nghiên cứu và phát triển (R&D), giúp Trung Quốc thu hẹp khoảng cách công nghệ so với phương Tây, nhưng không khả thi cho sản xuất hàng loạt

Trung Quốc vẫn chủ yếu dựa vào máy DUV (ảnh dưới) sản xuất chip phổ thông. Sự xuất hiện của công nghệ EBL có thể trở thành bàn đạp cho việc tạo mẫu các dòng chip tiên tiến, mở đường cho tương lai bán dẫn trong nước.


dù vẫn còn kém Mỹ nhiều năm về năng lực sản xuất, khoảng cách này đang dần thu hẹp, và EBL có thể trở thành một mảnh ghép quan trọng trong tham vọng bán dẫn của Trung Quốc

Độ chính xác: đạt mức 0,6nm – gần tiệm cận với công nghệ High-NA EUV của ASML.

Bấm để mở rộng...

Đỉnh cao xạo loz