Uh, phương Tây ghi nhận đây:
Hiện nay, Trung Quốc đã đạt được những bước tiến đáng kể:
- Máy DUV (Deep Ultraviolet) đời cũ: Trung Quốc, chủ yếu thông qua công ty SMEE (Shanghai Micro Electronics Equipment), đã phát triển được các máy quang khắc dùng cho các tiến trình tương đối cũ (khoảng 90 nm, 65 nm, 28 nm với nhiều mức độ khác nhau). Một số dòng đã được sản xuất và đưa vào sử dụng trong nước, dù hiệu năng và sản lượng vẫn còn hạn chế so với các máy của ASML. Nhiều báo cáo cho thấy SMEE đang tiến gần hoặc thử nghiệm máy DUV ngâm (immersion DUV), nhưng thông tin chi tiết chưa được công bố đầy đủ.
- Máy EUV (Extreme Ultraviolet): Trung Quốc chưa sản xuất được máy EUV hoàn chỉnh. Đây là loại máy cần để sản xuất chip tiên tiến ở các tiến trình như 7 nm, 5 nm, 3 nm với hiệu quả cao. Hiện nay, chỉ ASML của Hà Lan là công ty duy nhất trên thế giới bán máy EUV thương mại.
Tuy nhiên, dù chưa có EUV, các công ty Trung Quốc như SMIC vẫn đã sản xuất được chip 7 nm bằng cách sử dụng
máy DUV kết hợp kỹ thuật multiple patterning (khắc nhiều lần). Cách này có thể tạo ra chip tiên tiến nhưng:
- Chi phí cao hơn.
- Tốc độ sản xuất chậm hơn.
- Tỷ lệ chip đạt chuẩn thấp hơn so với sử dụng EUV.
Tóm lại:
- ✅ Trung Quốc đã chế tạo được một số máy quang khắc DUV đời cũ và đang cải tiến lên các thế hệ cao hơn.
- ❌ Trung Quốc chưa chế tạo được máy EUV thương mại có năng lực tương đương ASML.
- ✅ Họ vẫn có thể sản xuất một số chip tiên tiến bằng DUV, nhưng kém hiệu quả hơn so với sử dụng EUV.